拉普拉斯“反应炉和镀膜系统”专利公布

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天眼查显示，拉普拉斯新能源科技股份有限公司“反应炉和镀膜系统”专利公布，申请公布日为2024年10月18日，申请公布号为CN118792638A。

本公开涉及半导体或光伏材料加工技术领域，具体涉及一种反应炉和镀膜系统，解决了相关技术的反应炉的产能低的问题。本公开实施例提供的一种反应炉，被配置为对待加工产品进行镀膜，待加工产品的形状包括立方体。反应炉包括：腔体和炉门。腔体具有腔室，腔室包括立方体，腔室具有朝向下方的炉口，腔室被配置为容纳待加工产品，炉门位于腔体的下方，被配置为承载待加工产品，并能够在外力的驱动下打开或关闭炉口。立方体的腔室相对于圆柱体的腔室可容纳待加工产品的数量更多，另外，朝向下方的炉口可以避免通过悬臂驱动炉门来打开或关闭炉口，进而避免受悬臂的承载重量限制，以使炉门承载的待加工产品的数量更多，从而提高反应炉的产能。

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