华海清科“一种化学机械抛光系统及抛光方法”专利获授权

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天眼查显示，华海清科股份有限公司近日取得一项名为“一种化学机械抛光系统及抛光方法”的专利，授权公告号为CN115194640B，授权公告日为2024年10月18日，申请日为2022年8月15日。

本发明公开了一种化学机械抛光系统及其抛光方法，该系统包括：

1. 前置单元
2. 抛光单元
3. 清洗单元，位于前置单元和抛光单元之间

清洗单元包括：

• 第一清洗单元
• 第二清洗单元，垂直层叠设置在第一清洗单元上方

第一和第二清洗单元均包括：

• 晶圆传输机械手
• 多个晶圆后处理装置，围绕晶圆传输机械手布置

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