北方华创“一种腔室清洁方法及半导体工艺设备”专利公布

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北京北方华创微电子装备有限公司近日公布一项名为“一种腔室清洁方法及半导体工艺设备”的新专利（申请公布号：CN119050039A，申请公布日：2024年11月29日）。

该专利提出了一种创新的腔室清洁方法。当工艺腔室内的静电卡盘达到电荷清洁触发条件时，系统会先获取挡板的当前状态，再根据挡板状态和腔室目标状态判断是否满足挡板移出条件。满足条件后，系统会自动控制挡板移出腔室，并在腔室状态达到目标状态时执行电荷清洁，中和静电卡盘上的残余电荷。 此方法实现了挡板的自动移出和电荷清洁的自动化，显著提高了清洁效率，降低了人力成本，并有效避免了挡板对清洁效果的干扰，确保了清洁的彻底性。

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