鲁汶仪器专利公布：等离子体刻蚀设备及聚焦环顶升结构

江苏鲁汶仪器股份有限公司近日公布一项关于“等离子体刻蚀设备、刻蚀机台、聚焦环及其顶升结构”的专利（申请公布号：CN119446875A）。该专利发明了一种分体式聚焦环，通过多个独立层叠的环体，有效分割等离子体空间，降低带电粒子浓度和活性，从而预防电弧放电，避免打火和聚焦环碎裂等问题，提升了等离子体刻蚀设备的稳定性和可靠性。这项技术的突破，将对半导体制造等领域产生积极影响。

天眼查显示，江苏鲁汶仪器股份有限公司“等离子体刻蚀设备、刻蚀机台、聚焦环及其顶升结构”专利公布，申请公布日为2025年2月14日，申请公布号为CN119446875A。

本发明涉及一种等离子体刻蚀设备、刻蚀机台、聚焦环及其顶升结构，该聚焦环包括多个层叠设置的环体，各个所述环体相互独立地设置，位于最上层的所述环体的轴向尺寸大于所述聚焦环所允许的最大顶升高度，本发明提供了一种分体式的聚焦环，在使用过程中，各个环体均可以被顶升，因而通过各个环体将原有聚焦环整体被顶升后下方的大空间分割为若干个小空间，每个小空间仅仅只通过结构间的细小狭缝相连，小空间内等离子体的带电粒子浓度和活性被限制，从而达到预防电弧放电现象，避免产生打火痕迹或者聚焦环碎裂的问题的目的。

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