SKP10系列性能达到国际先进，欣奕华材料荣获2025 IC风云榜“年度技术突破奖”

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2025半导体投资年会暨IC风云榜颁奖典礼在上海圆满落幕，欣奕华材料荣获“年度技术突破奖”！

这项殊荣旨在表彰2024年度在半导体前沿技术领域取得原始性重大突破的企业，其创新成果达到国际先进或领先水平，并对推动中国集成电路产业自主可控发展具有重大意义。

引领光刻胶国产化进程

欣奕华材料专注于高端光刻胶、OLED材料的研发、生产和销售，业务涵盖新型显示和集成电路等国家战略性新兴产业。 作为中国大陆首家实现彩色/黑色显示光刻胶大规模量产的企业，欣奕华材料在全球光刻胶市场占据领先地位，成功填补了国内技术空白。

凭借十余年的技术积累和持续创新，欣奕华材料不断拓展产品线，多款新型显示和集成电路用材料实现技术突破并实现量产。在半导体光刻胶领域，公司专注于高端集成电路和先进封装制程应用光刻胶的研发，并与多家12英寸晶圆厂和先进封装产线建立了合作关系。多款KrF、I-line以及先进封装光刻胶产品已成功交付客户。

此外，欣奕华材料还自主研发了国内首创的IC用特种光刻胶，例如高分辨光刻胶（CIS）和微透镜光刻胶，广泛应用于CIS和AR/VR领域，并已获得客户认证。

技术实力获得广泛认可

欣奕华材料凭借在高端光刻胶和OLED材料国产化方面的突出贡献，获得了业界、政府和社会的广泛认可。公司荣获国家级专精特新“小巨人”企业、中国海关AEO高级企业认证等多项荣誉，并设立博士后工作站和省级企业技术中心。其光刻胶产品还被安徽省评定为“国际先进水平，实现自主供应能力”。 此外，公司还荣获SID ICDT“年度最佳显示组件产品奖”等多个行业奖项。

欣奕华材料积极参与国家重大科技项目，并成功将多个项目成果产业化，充分体现了国家对公司技术实力的认可。

此次荣获“IC风云榜-年度技术突破奖”的明星产品SKP10系列，专为12英寸晶圆制造中的离子注入工艺而设计。该系列KrF光阻具有高深宽比、高分辨率、宽工艺窗口、低驻波和卓越的抗离子注入性能等特点，可应用于不同膜厚（1-3μm）的离子注入工艺层，满足多个成熟制程技术节点的需求。SKP10系列已通过客户验证，性能可与国际同类型产品媲美，并在国内12英寸产线进行工艺、电学和良率验证，表现优异。欣奕华材料已为SKP10系列申请了多项发明专利。

IC风云榜作为中国集成电路领域的重要奖项，其评选结果由半导体投资联盟超100家会员单位和500多位半导体行业CEO共同投票产生，具有极高的权威性和影响力。 欣奕华材料的获奖，不仅是对其技术实力的肯定，也标志着中国半导体产业的持续进步和发展。

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