光至科技温控炉专利曝光解析
时间:2025-06-25 22:45:16 478浏览 收藏
各位小伙伴们,大家好呀!看看今天我又给各位带来了什么文章?本文标题是《光至科技温控炉专利公布及解析》,很明显是关于科技周边的文章哈哈哈,其中内容主要会涉及到等等,如果能帮到你,觉得很不错的话,欢迎各位多多点评和分享!
天眼查信息显示,武汉光至科技有限公司于2025年3月14日公开了一项名为“一种温控炉结构及控制方法”的专利,专利申请公布号为CN119617884A。
该发明涉及一种温控炉结构及其控制方法,具体包括壳体设计,壳体内部为空腔结构,两侧向外凸出,多个隔热件安装在壳体内;晶体座设于隔热件之上,且其一侧设有贯穿两端的凹槽;倍频晶体嵌入该凹槽中,壳体两侧的凸起部分开设有通向内部的透射孔,窗口片设置于透射孔内;压紧机构位于晶体座远离隔热件的一侧;加热元件则布置在晶体座靠近隔热件的一侧。该方案有效提升了倍频晶体工作温度的稳定性,通过采集不同温度下实时的倍频功率数据,建立倍频功率与温度之间的目标模型,并利用遗传算法求解最优工作温度,使倍频功率达到最佳状态,从而在外部环境恶劣或变化时仍能保障温控炉运行的稳定与可靠。
到这里,我们也就讲完了《光至科技温控炉专利曝光解析》的内容了。个人认为,基础知识的学习和巩固,是为了更好的将其运用到项目中,欢迎关注golang学习网公众号,带你了解更多关于光至科技的知识点!
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